wet etching

The microchip containing 16 reaction zones on its surface was manufactured from polished silicon wafers 0.6 mm thick using the photolithography method with subsequent anisotropic wet chemical etching.

Микрочип, содержащий 16 реакционных зон на его поверхности, был изготовлен из полированных кристаллических кремниевых пластин толщиной 0,6 мм методом фотолитографии с последующим анизотропным жидкостным химическим травлением.

http://www.patentlens.net/ 11/22/2011

http://www.patentlens.net/ 11/22/2011